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[ 정렬조건 : 등록일 | 조회  ]
순번 장비명 도입일
27   EPD system 2009 년
26   CMP Machine 2008 년
25   Single side lapping machine 2008 년
24   Dicing machine 2008 년
23   Lapping & Polishing machine 2009 년
22   Scrubber 2003 년
21   AFM (Atomic Force Microscopy) 2003 년
20   E-Beam Lithography System 2003 년
19   SEM 1995 년
18   Alpha-step 1998 년
17   Microscope 2000 년
16   Nanospec 2001 년
15   Ampoule vacuum system 2002 년
14   Oxidation Furnace 2002 년
13   RTA (Rapid Thermal Annealing) 2000 년
12   Spin Coater 2002 년
11   Mask-aligner2 2005 년
10   Mask-aligner1 1996 년
9   RF Magnetron Sputter 2003 년
8   E-beam Evaporator 1998 년
7   PECVD2 (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposi 2003 년
6   PECVD1 (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposi 1996 년
5   ICP (Inductive Coupled Plasma Etcher System) 2002 년
4   RIE (Reactive Ion Etching) 1996 년
3   DCA-MBE 2003 년
2   PA-MBE 1996 년
1   VG-MBE 1999 년

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